半導体洗浄装置
弊社は半導体ウェハ洗浄装置に特化し、PR-Strip、Pre/Post clean、Nitride remove、
Metal Etchingなど様々なアプリケーションを用意しています。
Wet Station
ULTRON B300
50枚バッチ式300mmウェハWet洗浄装置
特徴
・カセットレスタイプ
・内部バッファ容量：16FOUP
・PR-strip, Pre/Post clean, Nitride remove、Metal Etching
など様々なWet洗浄アプリケーションに対応
・省フットプリント
・Watermark free、優れた乾燥能力のIPA乾燥機
・OHT/AGV対応
ULTRON B200
50枚バッチ式200mmウェハWet洗浄装置
特徴
・カセットレスタイプ
・PR-strip, Pre/Post clean, Nitride etch 、Metal Etching
など様々なWet洗浄アプリケーションに対応
・SMIF pod対応可能
・バックコンベア搭載
・Watermark free、優れた乾燥能力のIPA乾燥機