半导体清洗设备

我们专注于半导体晶圆清洗设备，提供PR-Strip、Pre/Post clean、Nitride remove、Metal Etching等各种应用。

湿法工作站

ULTRON B300

50片批处理式300mm晶圆湿法清洗设备

特点：

  • 无卡带型
  • 内部缓冲容量：16个FOUP
  • 支持PR-Strip、Pre/Post clean、Nitride remove、Metal Etching等各种湿法清洗应用
  • 占地空间小
  • 无水印，具有优越的IPA干燥机能
  • 支持OHT/AGV

ULTRON B200

50片批处理式200mm晶圆湿法清洗设备

特点：

  • 无卡带型
  • 支持PR-strip, Pre/Post clean, Nitride etch 、Metal Etching等各种湿法清洗应用
  • 可支持SMIF pod
  • 配备后备传送带
  • 无水印，具有优越的IPA干燥机能